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          石金科技告訴你哪些因素影響管式PECVD 鍍膜的均勻性

          發布時間:2020-01-09 點擊次數:2081

          經過專業人員從鍍膜工藝參數設定、硅片制絨面反射率及石墨舟狀態3 個方面對管式PECVD 鍍膜均勻性進行了研究,結果表明:


                1) 鍍膜過程中適當降低腔體外層壓力,增加內層氮硅比,降低射頻功率對片內或片間均勻性有所改善。實驗過程中,在保證良率的情況下,選擇外層壓力為1700 mTorr、內層氮硅比為4.487、射頻功率為7600 W 時,調節DLV 優化石墨舟各區溫度且定期清理腔體內部碎片可改善鍍膜均勻性。


                2) 在一定范圍內,制絨面反射率增加,膜厚增大,片內均勻性更優。


                3) 新石墨舟鍍膜均勻性明顯優于舊石墨舟;在新石墨舟使用周期內,運行30 次時片間均勻性達到最優。

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